作者:
Su22 (裝配匠)
2026-02-27 23:52:46原文標題：ASML 秀新技術 2030年晶片產量激增五成 台積電吞大力丸
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原文連結：https://money.udn.com/money/story/5612/9342659
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發布時間：2026/02/25 02:19:59
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記者署名：尹慧中
※原文無記載者得留空
原文內容：
全球半導體微影設備龍頭艾司摩爾（ASML）端出重磅新技術，能在2030年前讓晶片產量較
現階段增加五成。業界看好，艾司摩爾新技術將讓台積電（2330）吞下「大力丸」，未來
產出量將大增且有助降低成本，推升台積電獲利可期。
艾司摩爾新技術助威，台積電未來晶圓代工龍頭地位將更穩固，市場買盤昨（24）日簇擁
台積電，推升股價一度衝上1,975元天價，市值飆破51兆元，終場收1,965元，創收盤歷史
新高價，大漲65元，市值也登上50.96兆元新紀錄。
台股昨天勁揚927點，光是台積電一檔就貢獻漲點逾500點，成為大盤多頭總司令，蓄勢叩
關35,000點。外資昨天買超台積電6,887張，終止連二賣。
艾司摩爾表示，已找到方法強化晶片製造設備的光源功率，能讓晶片產量到2030年最多增
加五成。
艾司摩爾是透過將極紫外光（EUV）微影設備的光源功率，從現今的600瓦特提高至1,000
瓦特，達成上述目標，這項新技術最大好處是光源功率愈強，每小時能生產更多晶片，有
助降低每顆晶片的成本。
晶片印製方法類似相片，用EUV光線照在塗有光阻劑的矽晶圓上。EUV光源功率愈強，晶片
曝光時間愈短。
艾司摩爾EUV機器NXE產線執行副總裁范谷（Teun Ｖan Gogh）表示，到2030年時，每台機
器每小時應該能處理約330片矽晶圓，高於現在的220片，相當於產量提高五成。
為產生波長13.5奈米的光，艾司摩爾的機器會把一束融化錫滴射過一個腔體，由高功率的
二氧化碳雷射加熱為電漿，在錫滴的超熱狀態物質型態下，溫度會高於太陽，並且射出極
紫外光，並由德國蔡司供應的精準光學設備蒐集後，導入機器印製晶片。艾司摩爾的最新
進步為提高錫滴數量一倍至每秒約10萬個，並用兩組更小的雷射脈衝形塑為電漿，而非目
前的單一形塑脈衝。
艾司摩爾是台積電重要夥伴，日前釋出上季財報與展望均優於預期，並調高2026年全年展
望，預告今年會是成長的一年，在手訂單創新高。
艾司摩爾生產的EUV微影設備，是半導體先進製程必備的機台，台積電也是目前EUV量產設
備保有數量與規模最大的廠商。法人認為，艾司摩爾報喜，透露AI需求強勁帶旺半導體先
進製程需求大好，台積電營運持續看旺。
心得/評論：
ASML也持續在進步
新技術可以讓先進製程晶片的成本降低,產能提高五成
對先進製程龍頭的台積電也是利多
ASML與台積電,強強聯手
股價長期仍有上漲的動能
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