1.媒體來源:
中時新聞網
2.記者署名:
郭宜欣
3.完整新聞標題:
大陸技術落後至少20年！高盛爆「震撼真相」只能生產65奈米
4.完整新聞內文:
大陸無法取得生產先進半導體的極紫外光EUV曝光機，使得大陸只能使用次級的深紫外光
DUV曝光機，自主生產晶片的能力停留在7奈米。高盛認為，大陸本土研發曝光機的技術落
後西方至少20年，本土曝光機目前僅能生產65奈米的半導體。
外媒wccftech報導，高盛最新報告指出，全球最大半導體設備商艾司摩爾ASML花了20年，
投入超過400億美元研發與資本支出，才將曝光機技術從65奈米推進至3奈米以下，目前大
陸本土曝光機技術仍停留在65奈米階段，短期內不太可能追上西方世界的水準。
艾斯摩爾擁有全世界最先進的曝光機技術，唯一能夠生產EUV機台的廠商，大陸雖然能不
斷改良DUV機台推進生產半導體的實力，但存在成本過高、效率過低且良率不佳的問題。
華為旗下產品使用中芯的7奈米技術，但更先進的5奈米技術尚未商用，且市場流言眾說紛
紜，wccftech曾引用南韓金融服務商Kiwoom Securities的報告指出，中芯雖然在5奈米發
展上取得進展，但成本比台積電高出50%，且良率僅台積電的三分之一。
大陸工信部去年曾公告，大陸已經成功自主研發DUV機台，可生產8奈米及以下晶片，雖然
與艾司摩爾存在差距，但至少能夠填補空白。大陸工信部也期待未來能夠國產EUV機台，
擺脫西方國家的牽制。
目前台積電、英特爾與三星都是利用艾司摩爾的EUV機台推進技術，台積電最先進的2奈米
技術預計在第四季量產，已經獲得蘋果、超微及輝達等大客戶的訂單。
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https://www.chinatimes.com/realtimenews/20250902001631-260410?chdtv
6.備註:
可是 小粉紅都說他們中国 今年能量產3nm晶片了耶!!! 真的嗎???